等離（lí）子清洗（xǐ）（PLASMA）是一種依靠處於“等離子態”的物（wù）質的“活化作用”，來去除物體表麵汙漬的一種清洗（xǐ）方法。它屬於電子工業清洗中的幹法清（qīng）洗，過程中需要真空泵製造（zào）一定的真空條件滿足清洗所需，東莞市香蕉污视频真（zhēn）空科技有限公司來說說旋片真空（kōng）泵在等離子清洗技（jì）術中的應用過程是怎麽一回事，以及講（jiǎng）解一下旋（xuán）片真空泵具有什麽（me）特點。

等離子清洗所需要的（de）等離子體主要通過特定（dìng）的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生，像（xiàng）低壓氣（qì）體輝光（guāng）等離（lí）子體（tǐ）。簡單（dān）地如開頭說，等離子清洗需要在真空狀態下進行（一（yī）般需保持在100Pa左右），所以需要德國旋片真空（kōng）泵進行抽真（zhēn）空作業。

等離子清洗用旋片真空泵的過程是（shì）如何的？

其主要過程包括：首先將需要清洗（xǐ）的工件送入（rù）真空室固定，啟動旋片（piàn）真空（kōng）泵等裝置（zhì）開始抽真（zhēn）空排氣到10Pa左右的真空度（dù）；接著向真空室引入（rù）等離子清洗用（yòng）的氣體（根據清洗材質（zhì）的不同，選用（yòng）的氣體也不同，如氧氣、氫氣、氬（yà）氣、氮氣等（děng）），並將壓力保持在100Pa左右；在真空室內的電極與接地裝（zhuāng）置之間（jiān）施加高（gāo）頻電壓，使氣體被擊穿，並（bìng）通過輝光放電使其發生離子化，產生等離子體；在真空室內產生的（de）等離（lí）子體（tǐ）完全覆蓋被清洗工件後，開始清洗作業，清（qīng）洗過程會持續幾十（shí）秒到幾分鍾。整個過程（chéng）就是（shì）依靠等（děng）離子體在電磁場（chǎng）內空間運動，並轟擊被（bèi）處理物體表麵，從而達到表麵處理、清（qīng）洗和刻蝕的效果（清洗過（guò）程某種程度就是輕微的蝕刻工藝）；清洗完畢（bì）後（hòu），排出汽化的汙垢及清洗氣體，同時向真（zhēn）空室內送入空氣恢複至正常大氣（qì）壓（yā）。

清洗過程中，在旋片（piàn）真空（kōng）泵控製真空（kōng）室的真空環境時，氣（qì）體的流量決定了發光色度：如果（guǒ）色度（dù）較重，說明（míng）真空（kōng）度低，氣體流量較大；而偏白時，則是真（zhēn）空度過高，氣體流量較小；具（jù）體需要根據所需的處理（lǐ）效果，來確定真空泵要（yào）實現的真空度。

等離子清洗（xǐ）技術不分（fèn）處理對象的基（jī）材類型，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料（如聚丙烯、聚脂（zhī）、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯）等原基材（cái）料（liào）都能很好處理，並可（kě）實現（xiàn）整體和局部以及複雜結構的（de）清洗，還具備環保、安全、易控製等優勢，因（yīn）此在很多方麵，尤其是（shì）精密件清洗（xǐ）、新（xīn）半導體材料研究以及集（jí）成電（diàn）路器件製造業中逐漸取代了濕法清洗工藝。

香蕉污视频旋片真空泵在等離子（zǐ）清洗技術中的應（yīng）用同國內同類其（qí）他產品相比的優點：

1.使用方（fāng）便，安裝，維（wéi）護簡單；

2.旋片真空泵設有氣鎮閥，可抽除少量水蒸氣；

3.旋片真空泵的極限真空度高；

4.內裝強製進油，潤滑充分，性（xìng）能可靠；

5.設有自動防返（fǎn）油雙重保險裝置；

6.保持進氣壓強（qiáng）為1.33×10Pa時仍可連續運轉；

7.不（bú）漏（lòu）油、不噴油、不汙（wū）染工作環境。