眾所周知，半導體（tǐ）工藝水平決定了晶體（tǐ）管尺寸大小（xiǎo）。在半導體廠（chǎng）或光電廠（chǎng）中，真空係統應用於提（tí）供製程設備的真空吸（xī）盤（pán）或吸筆來搬運傳送晶片或玻璃，為半導體製程中相（xiàng）當重要之支（zhī）援係統。本（běn）篇文章涉（shè）及半導體製程技術領域，在介（jiè）紹真空係統在半導體製程中的（de）應用之前，我司打算先對半導體製程和真（zhēn）空（kōng）係統做些簡單的介紹。

在真空係統中，真空針對（duì）大氣而言，表示一特（tè）定空間或係統內部分氣體（tǐ）被（bèi）排出，其內部空（kōng）間的（de）壓力小於大氣壓力，則稱此空間（jiān）為（wéi）真空或為真空（kōng）狀（zhuàng）態，簡單言之，空間內壓（yā）力低於一大氣壓力即為真（zhēn）空。在高科技製程中所（suǒ）要求的高真空或超高真空，就（jiù）必須要有足夠的（de）真空技術或設備才能達成。

半導體製程專用真空係統的真（zhēn）空度要求一（yī）般為700-~500mmHg之（zhī）間，僅落在粗略真空範圍內（nèi），而製程設備真空度要求則視其應（yīng）用範圍而定，而落在中真空度與（yǔ）超（chāo）高真空（kōng）度或以上之（zhī）範圍。

不同類型（xíng）的真空泵組合而成（chéng）的係統，真空度也有所不一樣，關於真空係統的類（lèi）型，東莞市（shì）普諾（nuò）克（kè）真空科技有限公司整理出幾大（dà）類。

真空係統的類型有三種：

1.低真空係統

2.中真空係統

①由羅茨（cí）泵為主泵（bèng）串聯機（jī）械泵而構成的係統；

②由（yóu）油增壓泵為主（zhǔ）泵串（chuàn）聯機械泵而構成的係統；

③由羅茨泵串聯小羅茨泵，再串聯機械泵而構成的係（xì）統。

3.高（gāo）真空係統

①由擴散泵為主泵串聯（lián）羅茨泵，再串聯機械泵（bèng）而構成的係統；

②由擴散泵為主泵（bèng）串聯機械泵（bèng）而構（gòu）成的真空係統；

③由擴散泵為主泵串（chuàn）聯油增壓泵，再串聯機械泵而構（gòu）成的真空係統。

根據上述所提到的內容，在半導體製（zhì）程中，最佳的方法就是選擇應用高真空係統，高真空係統可以由不同的真（zhēn）空設備組合而成。

事實上簡單的真空係統隻是能獲得一個粗真空，而想要獲得高真空時，通常在真空係統（tǒng）中串聯一（yī）個高真空（kōng）泵，比如羅茨泵和螺杆泵等（děng）都是獲得高真空的泵。當（dāng）串聯一個高真空泵之後，通常要在高真空泵的入口和（hé）出口分（fèn）別（bié）加上（shàng）閥門，以便高真空泵能單獨（dú）保持真（zhēn）空。如果（guǒ）所（suǒ）串聯（lián）的（de）高真空泵是（shì）一個油擴散泵，為了防止（zhǐ）大（dà）量的油蒸氣返流進入被抽容器，通（tōng）常在油擴散（sàn）泵的入口（kǒu）加一個捕集器——水冷障板。根據要求，還可（kě）以在管路（lù）中加上除塵器、真（zhēn）空繼電（diàn）器規頭、真空軟連接管道、真空泵入口放氣閥，散熱器等等，這樣就構成了一（yī）個較完善的高真空係統。

關於半導體製程和真空係統，小（xiǎo）編就介紹到這裏，如果您仍對真空係統在半導體製程（chéng）中的應用有什麽疑惑（huò）的話，隨時可以（yǐ）聯係我司。